Status de disponibilidade: | |
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Quantidade: | |
Aplicativo
Aplicação de vácuo
Laboratório e pesquisa e desenvolvimento
Indústria de semicondutores
Embalagem a vácuo
Equipamento de processo de gravação a plasma
Aplicativo
Aplicação de vácuo
Laboratório e pesquisa e desenvolvimento
Indústria de semicondutores
Embalagem a vácuo
Equipamento de processo de gravação a plasma
Características
Características
Parâmetros técnicos
Meio de medição | Vários gases compatíveis com materiais de contato |
Variação de pressão | 0~2Torr…1000Torr |
Precisão | ±0,1%FS,±0,25%FS,±0,5%FS (sujeito à faixa de medição) |
Temperatura de trabalho | -40~85°C |
Tensão de alimentação | 10~30VCC 8,5~30 VCC 12~30VCC 10~30VCC (sujeito a saída) |
Sinal de saída | 4 ~ 20mADC, tensão, RS485 |
Parâmetros técnicos
Meio de medição | Vários gases compatíveis com materiais de contato |
Variação de pressão | 0~2Torr…1000Torr |
Precisão | ±0,1%FS,±0,25%FS,±0,5%FS (sujeito à faixa de medição) |
Temperatura de trabalho | -40~85°C |
Tensão de alimentação | 10~30VCC 8,5~30 VCC 12~30VCC 10~30VCC (sujeito a saída) |
Sinal de saída | 4 ~ 20mADC, tensão, RS485 |
Aplicativo
Aplicação de vácuo
Laboratório e pesquisa e desenvolvimento
Indústria de semicondutores
Embalagem a vácuo
Equipamento de processo de gravação a plasma
Características
Parâmetros técnicos
Meio de medição | Vários gases compatíveis com materiais de contato |
Variação de pressão | 0~2Torr…1000Torr |
Precisão | ±0,1%FS,±0,25%FS,±0,5%FS (sujeito à faixa de medição) |
Temperatura de trabalho | -40~85°C |
Tensão de alimentação | 10~30VCC 8,5~30 VCC 12~30VCC 10~30VCC (sujeito a saída) |
Sinal de saída | 4 ~ 20mADC, tensão, RS485 |